等離子處理英文叫（plasmacleaner）又稱等離子清洗機，等離子表面改性設(shè)備,電漿清潔機,等離子表面處理機,等離子體表面處理設(shè)備,等離子蝕刻機,等離子清洗器,等離子清洗儀，等離子體材料表面改性處理設(shè)備，等離子體表面改性產(chǎn)品。等離子處理（plasmacleaner）廣泛用于等離子清洗,刻蝕,等離子鍍,等離子涂覆,等離子灰化和表面改性。

    等離子處理（plasmacleaner）的優(yōu)點：

    1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣-固相干式反應,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。

    2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；

    3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

    4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10-1000A），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；

    5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

    6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進行質(zhì)量控制。

    7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。