400-6505-735
等離子清洗設(shè)備可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過程中。半導(dǎo)體制造涉及多個(gè)步驟，其中之一是可以清潔半導(dǎo)體設(shè)備表面，去除沉積物、有機(jī)物、灰塵等污染物，確保設(shè)備的質(zhì)量和性能。等離子清洗設(shè)備可以利用等離子體產(chǎn)生的活性離子和化學(xué)反應(yīng)，可以在非常小的尺度上進(jìn)行清洗。
2024-03-05
關(guān)于我們
企業(yè)介紹 企業(yè)文化 發(fā)展歷程 榮譽(yù)資質(zhì)新聞中心
新聞資訊 技術(shù)文章 視頻中心服務(wù)支持
售后服務(wù)欄目導(dǎo)航
產(chǎn)品中心應(yīng)用領(lǐng)域聯(lián)系我們
400-6505-735
CIF微信公眾號(hào)
CIF抖音號(hào)
版權(quán)所有 ? 華儀行（北京）科技有限公司 Al Rights Reseved 備案號(hào)：京ICP備14024388號(hào)-2
技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登陸 Sitemap.xml
